砷化镓抛光片清洗技术

在砷化镓单晶体抛光处理之后，形成的自然氧化膜内部结构主要有三氧化二砷、五氧化二砷、三氧化二镓等物质。在实际应用过程中，相较于砷而言，镓的化学性质更加活泼，因此在砷化镓单晶抛光片中表层氧化物质主要为砷氧化物。而由于砷自然氧化层厚度较大，其实际晶体抛光片完整性也具有一定缺失。因此在砷化镓单晶抛光片清洗过程中，主要针对其表层三氧化二砷、三氧化二镓氧化物。首先可采用氢氧化钾溶液，通过氢氧根离子与三氧化二镓、三氧化二砷、五氧化二砷的反应，可有效去除砷化镓表层自然氧化物质。由于在实际清除过程中，氢氧化钾溶液与砷化镓在持续的发生反应，其可在砷化镓抛光片外层形成亲水表层，在不损伤抛光片表层结构的情况下，将砷化镓表层颗粒有效去除。然后可采用臭氧水与紫外光进行清除处理。在紫外光的催化作用下，臭氧水可与砷化镓表层物质发生反应，从而形成稳定的活化能。最后在砷化镓表层物质状态变化的基础上，可采用1000kHz 超声波清洗，结合稀硫酸溶液，为砷化镓表层物质去除营造一个良好的酸性环境，便于砷化镓表层金属物资及其他有机吸附杂质的有效去除。